Для задач получения изображений в СЭМ и ПЭМ используются металлические покрытия, например, хром и золото. Наиболее распространённым методом является — магнетронное распыление.
Однако, при исследованиях в СЭМ одним из главных направлений является проведения рентгеновского микроанализа. Для этих задач крайне желательно иметь тончайшее покрытие, обеспечивающее стабильных ток образца и поток рентгеновского излучения. Чем тоньше покрытие, тем меньше поглощение рентгеновского излучения в нем и тем меньше потери первичного пучка электронов при попадании на образец. Кроме того, чем тоньше покрытие, тем меньше будет генерация рентгеновского излучения из самого покрытия. Для пленок из большинства металлов, используемых в СЭМ для увеличения коэффициента вторичной электронной эмиссии (для получения высококачественных контрастных изображений), генерируемое характеристические и непрерывное излучение могут налагаться и взаимодействовать с анализируемыми линия исследуемого характеристически рентгеновского излучения. Дополнительные проблемы могут возникать в том случае, если анализируемый элемент присутствует в следовых количествах.
Проведенные исследования показали, что для углеродного напыления потери первичного пучка оказываются малыми даже при низких ускоряющих напряжениях, что для него характерен наиболее низкий коэффициент ослабления для выходящего рентгеновского излучения. Учитывая приведенные обстоятельства для задач, связанных с рентгеновским микроанализом крайне желательно использовать углеродное напыление.