Система нагрева образцов in situ объединяет микроскоп IQSCAN FIB55 и нагревательный MEMS-чип. Весь цикл — от пробоподготовки до EBSD-анализа in situ — проходит без развакуумирования камеры.
Система нагрева образцов in situ состоит из двухлучевого сканирующего электронного микроскопа с фокусированным ионным пучком (FIB-SEM) IQSCAN FIB55 и модуля нагрева образца на MEMS-чипе. FIB-SEM позволяет готовить ламели — тонкие микрообразцы, подходящие для EBSD-анализа, а MEMS-чип создаёт на образце управляемое тепловое поле. Температура образца регулируется с высокой точностью и стабильностью. Во время нагрева можно наблюдать, как меняются микроструктура, фазовый состав, микронапряжения и элементный состав.
Ключевые характеристики нагревательного MEMS-чипа
Точность регулирования температуры: < 0,1 °C
Диапазон регулирования температуры: от комнатной до 1200 °C
Точность измерения температуры: < 0,1 °C
Полный цикл исследования в одной системе
Шаг 1
Осаждение вольфрама и вытравливание крупной траншеи фокусированным ионным пучком, угол наклона 54°
Шаг 2
L-образный подрез ламели, угол наклона 0°
Шаг 3
Извлечение и перенос ламели наноманипулятором, угол наклона 0°
Шаг 4
Приваривание ламели к вертикально установленной медной сетке, угол наклона 54°