+7 812 220 20 80
Сиcтема электронно-лучевой литографии NanoMaker
Преобразует любые сканирующие электронные микроскопы в том числе и двулучевые системы в лабораторные литографы для создания наноструктур.
Обеспечивает позиционирование луча с нанометровой точностью на площадях больше 100 мм для высокопроизводительного экспонирования.
Обеспечивает позиционирование луча с нанометровой точностью на площадях больше 100 мм для высокопроизводительного экспонирования.
Система включает в себя следующие компоненты:
1. Программное обеспечение для ОС Windows (9x, NT, 2000, XP), обеспечивающее:
2. Высокоскоростной Генератор Изображений, включающий два 16 битных ЦАПа для управления положением электронного луча в колонне и один 8 битный АЦП для записи изображений
3. PCI карту для управления Генератором Изображений из компьютера
4. Драйверы управления Генератором Изображений, столами и микроскопами
5. Управление быстрым бланкером луча в колонне. Возможно экспонирование без бланкера
- проектирование 2D/3D структур произвольной сложности
- 2D/3D коррекцию эффекта близости
- прогнозирование результатов экспонирования посредством моделирования проявления резиста
- высокую производительность через активную компенсацию ошибок позиционирования луча при экспонировании и записи изображений
2. Высокоскоростной Генератор Изображений, включающий два 16 битных ЦАПа для управления положением электронного луча в колонне и один 8 битный АЦП для записи изображений
3. PCI карту для управления Генератором Изображений из компьютера
4. Драйверы управления Генератором Изображений, столами и микроскопами
5. Управление быстрым бланкером луча в колонне. Возможно экспонирование без бланкера
Программное обеспечение выполняет три основных функции:
1. Подготовка данных для экспонирования:
2. Управление экспонированием
3. Совмещение последовательных литографий и настройка координатных систем:
- Проектирование наноструктур с помощью интегрированного графического редактора;
- Коррекция эффекта близости;
- Моделирование экспонирования и проявления резиста;
- Импорт и экспорт данных в различных форматах (GDSII, DXF, ASCII, BMP,…);
- Специальная обработка данных (Frame, Negative, Union, Dividing и д.р.) для экспорта и получения оптимальных результатов на других литографических системах.
2. Управление экспонированием
- Изменяемые времена экспонирования элементов (dwell time) для обеспечения коррекции эффекта близости;
- Синхронизированное перемещение электронного луча и моторизованного стола;
- Компенсация динамических ошибок и дисторсии "на лету" для ускорения экспонирования.
3. Совмещение последовательных литографий и настройка координатных систем:
- Автоматическое и полуавтоматическое совмещение слоев при последовательных литографиях через набор маркерных знаков;
- Измерение и программная компенсация ошибок отклоняющей системы и системы перемещения стола для точной стыковки полей;
- Режим Цифрового Микроскопа, включающий редактор окон и процедуры съема, записи и начальной обработки полутоновых изображений.
Области применения
- Микроэлектроника
- Нанотехнологии
- 3D нано- и микроструктурирование
- МЭМС, датчики и актуаторы
- Дифракционная оптика (синтезированные голограммы) для видимого и рентгеновского диапазона, включая радужные голограммы
- Цифровая микроскопия
Примеры применения
Контактные площадки были сформированы с использованием фотолитографии. Затем электронно-лучевая литография была использована для создания меза-структуры (кольца) с 2DEG.
В заключение, с помощью электронно-лучевой литографии были выполнены металлические контакты.
В заключение, с помощью электронно-лучевой литографии были выполнены металлические контакты.
Общий вид изготовленной линзы и сетки маркеров. Брэгг-Френелевская линза 1 +3 +5 порядков габаритными размерами 1250 мкм х 180 мкм и размером минимальной зоны 200 нм. Линза была экспонирована в 400 нм ПММА-950 резисте при ускоряющем напряжении 15 кВ и перенесена в 100 нм Au пленку посредством lift-off процедуры. Несколько маркеров, видимых в левой части изображения были использованы для предварительного совмещения координатных систем образца, отклоняющей системы микроскопа и стола при помощи полуавтоматической процедуры. А затем, все экспонирование и стыковка полей по сетке маркеров были выполнены в автоматическом режиме.
Эта наименьшая карта мира из нарисованных когда-либо при помощи электронно-лучевой литографии (ширина линии 7 нм). Она была изготовлена еще в 1995 году на микроскопе UHV FE-SEM HB 501. В качестве подложки использовалась Si3N4 мембрана покрытая чувствительным к электронам материалом AlF3. Работа была выполнена др. В. Николайчиком и др. И. Ходосом в ИПТМ РАН, Черноголовка.
Еще одно приложение, для которого может быть успешно использован NanoMaker - это контролируемое осаждение тонкопленочных покрытий на подложку путем разложения металлоорганики под воздействием сфокусированного электронного луча. Имеющиеся в NanoMaker'e возможности позволяют в заданном месте подложки формировать покрытия заданной формы и толщины с высоким пространственным разрешением.
NanoMaker успешно используется для выращивания ультратонких игл путем разложения молекул масла из остаточных паров под воздействием электронного луча. Так называемые кантилеверы типа "Whisker" для АСМ используются для более глубокого проникновения внутрь узких ниш когда стандартные кантилеверы не могут достичь дна и производить измерения у вертикальных стенок.
Киноформное оптическое устройство, изготовленное 3D литографией. При использовании 3D коррекции эффекта близости объекты с произвольной пространственной формой могут быть созданы в результате единственного экспонирования.
Конфигурации системы NanoMaker
- NanoMaker Full - полная версия
- NanoMaker Workbench - для проектирования структур на автономном ПК
- NanoMaker Writer - для проектирования структур, экспонирования и съемки изображений
Описание генератора изображений
Elli30 PCIe - это улучшенная модель, разработанная с целью повышения производительности основных операций. Как и его предшественники, Elli30 PCIe - это современное коммуникационное устройство в состав которого входят малошумящие Цифро-Аналоговые и Аналого-Цифровой преобразователи отличающиеся высокой скоростью адресации, преобразования и передачи данных для осуществления быстрого управления отклоняющей системой микроскопа и записи видео сигнала в цифровом формате.
Основные новые решения включают:
В составе Генератора Изображений поставляются:
Аналоговый модуль включает следующие подсистемы:
Временные характеристики Генератора Изображений в зависимости от режимов экспонирования/снятия изображения:
Основные новые решения включают:
- Цифровой модуль - PCIe карта, занимающая один слот PCIe шины компьютера (ПК), для обеспечения более высокой производительности и лучшей совместимости с новыми и будущими моделями PC
- Два 2гГц оптических канала связи между Цифровым и Аналоговым модулями для повышения скорости обмена данными и, соответственно, два волоконно оптических кабеля
- Передача управления временными интервалами внутреннему таймеру генератора изображений
В составе Генератора Изображений поставляются:
- Цифровой модуль - PCIe карта, занимающая один слот PCIe шины компьютера (ПК)
- Отдельно стоящий Аналоговый модуль с собственным стабилизированным блоком питания
- Два оптоволоконных кабеля (2м в стандартном варианте, при необходимости любой другой длины)
- Набор сигнальных кабелей
- Кабель питания
- Драйверы управления для 32-битных Windows ОС 9х/NT/2000/XP/7/1
Аналоговый модуль включает следующие подсистемы:
- Два 16-битных цифро-аналоговых преобразователя (50 мГц ЦАП) для управления отклоняющей системой микроскопа
- Один 8-разрядный аналого-цифровой преобразователь (АЦП) для записи видеосигнала
- Управление сигналом бланкирования луча (выходной сигнал TTL уровня)
- Коммутатор режима Внутреннее/Внешнее сканирование (выходной сигнал TTL уровня)
Временные характеристики Генератора Изображений в зависимости от режимов экспонирования/снятия изображения:
- Минимальное время стояния в точке (dwell time): 50 нс (20 мГц)
- Шаг приращения времени стояния в точке (dwell time resolution): 10 нс (100 мГц)
- Время on-Board накопления изображения (accumulation cycle): 50 нс (20 мГц)
- Минимальное время снятия изображения в точке (acquisition dwell time): 0.8 мкс (включая 12 циклов накопления)
Система электронно-лучевой литографии Nanomaker - Запрос КП
Нажимая на кнопку, вы даете согласие на обработку персональных данных и соглашаетесь c политикой конфиденциальности