DST1-300 – высоковакуумная напылительная установка с одним магнетроном
DST1-300 – компактная высоковакуумная установка магнетронного распыления, предназначенная для создания разнообразных покрытий, с возможностью выполнять долговременное распыление однородных материалов из полупроводников, диэлектриков и металлов (окисляющихся и благородных). DST1-300 имеет большую цилиндрическую камеру для напыления диаметром 300 мм, и может быть оснащена 2, 3 или 4-х дюймовым магнетроном с водяным охлаждением. Идеально подходит для нанесения покрытий на габаритные образцы диаметром до 15 см или на несколько образцов меньшего образца.
Запросить КП
Неограниченное время распыления делает DST1-300 идеально подходящей для нанесения покрытий большой толщины. Одномагнетронная установка может быть оснащена источником питания постоянного тока мощностью 600 Вт или ВЧ-генератором мощностью 300 Вт (опционально) с блоком автоматического согласования. DST1-300 способна осаждать широкий спектр окисляющихся и неокисляющихся металлов (таких как золото (Au), сплав платины/палладия (Pt/Pd), серебро (Ag), хром (Cr), вольфрам (W), иридий (Ir) и т.д.), оксиды металлов (например, TiO2, ZnO и т.д.) и диэлектрики на различные поверхности для тонкопленочных применений, таких как микро- и наноэлектроника, а также для подготовки образцов для электронной микроскопии.
DST1-300 сконструирована как оборудование для создания покрытий методом магнетронного распыления, предназначенных для исследовательских задач, но при этом она также идеально подходит для подготовки образцов для электронной микроскопии. Установка обеспечивает получение высококачественных однородных мелкозернистых пленок, подходящих для сканирующей электронной микроскопии высокого разрешения, просвечивающей электронной микроскопии и различных аналитических применений (ЭДС, ВДС и EBSD).
Внутренний импульсный источник питания постоянного тока мощностью 600 Вт
Измерить толщины напыленного покрытия с точностью до 1 нм и разрешением 1 Å
Электронные клапаны напуска
Проходные соединения для системы термического испарения (опция)
Функции столика образцов: вращение, регулировка высоты и наклона
Заслонка с электромеханическим приводом
Легкая смена столиков для образцов
Автоматизация процессов:
Интуитивно понятный сенсорный экран для управления процессами нанесения покрытия и быстрого ввода данных
Удобное программное обеспечение для управления установкой, обновляемое по сети
Контроль скорости напыления покрытий для получения прецизионной мелкозернистой структуры
Полуавтоматический процесс нанесения покрытия (опция)
Воспроизводимые программируемые процессы нанесения покрытий в автоматическом режиме
Ручное или автоматическое нанесение покрытий при магнетронном напылении в соответствии с заданным значением толщины или времени
Запись и построение графиков с параметрами процессов напыления
Сохранение рецептов нанесения покрытий для воспроизведения процессов
Дополнительные возможности:
ВЧ источник питания и согласующий блок для осаждения материалов с проводящих и непроводящих мишеней
Система плазменной обработки поверхности
Система подачи напряжение смещения на образец (300 В, DC)
Нагрев образца до 500 °C с программным управлением
Высокий вакуум
Вакуумная камера выполнена из боросиликатного стекла (Pyrex). DST1-300 оснащена встроенным турбомолекулярным насосом мощностью 90 л/с (или опционально 350 л/с) и двухступенчатым пластинчато-роторный форвакуумным насосом производительностью 6 м3/ч. Данная система обеспечивает чистый вакуум в камере напыления без загрязнения маслом, который обычно наблюдается при использовании привычного диффузионного насоса.
Управление при помощи сенсорного экрана
Настольная установка для нанесения углеродного покрытия оснащена 7-дюймовым цветным сенсорным экраном; полностью автоматическое управление, контроль и настройка параметров процесса напыления при помощи удобного программного обеспечения. Информацию о уровне вакуума и этапа процесса напыления покрытия можно отслеживать в виде цифровых данных или графиков на сенсорном экране. Информация о последних 300 покрытиях сохраняется в истории выполненных операций и может быть передана на ПК через USB-порт.
Столики образцов
Установка может быть оснащена различными столиками для образцов в разнообразной конфигурации в зависимости от требований пользователя. Столики образцов имеют возможность вращения, регулировку по высоте и углу наклона; легко заменяются.
Применение оборудования:
Металлические, полупроводниковые и диэлектрические покрытия
Нано-и микроэлектроника
Покрытия для отрасли солнечных батарей
Напыление под скользящими углами (GLAD - Glancing Angle Deposition) при наличии столика с планетарным вращением (опция)
Покрытия для оптических компонентов
Тонкопленочные датчики
Магнитные тонкопленочные устройства
Прецизионное напыление для подготовки образцов для СЭМ и ПЭМ
Дополнительная информация:
Турбомолекулярный насос с повышенный производительностью (опционально): Стандартная конфигурация: скорость откачки 90 л/с, предельное давление 8×10-6 Торр; Конфигурация с повышенной производительностью: скорость откачки 350 л/с, предельное давление 8×10-7 Торр