+7 812 220 20 80

PLD-T – высоковакуумная установка для нанесения покрытий путем импульсного лазерного осаждения, дополнительно оснащённая системой термического испарения.

Система PLD-T способна осуществлять нанесение сложных материалов и кристаллических структур на образцы с минимальными затратами на настройку.

Метод импульсного лазерного осаждения обеспечивает эффективную нетермическую абляцию и сохраняет стехиометрию материала мишеней. Благодаря использованию метода импульсного лазерного осаждения становится возможным напылять такие материалы, как нитриды, оксиды, сверхрешетки, полимеры, композиты.

Запросить КП

Аппаратные возможности и характеристики:

Держатель-манипулятор для мишеней с регулируемой скоростью вращения
3 независимых источника системы термического испарения
Измеритель толщины напылённого покрытия с точностью до 1 нм
Заслонка с электромеханическим приводом
Моторизованная система выбора «лодочки»
Вращение столика с образцом
Нагрев образца до 500 °C с программным управлением

Термическое испарение

Напылительная установка PLD-T может быть оснащена тремя независимыми сборками для термического испарения, подходящей для большого разнообразия применений. Позволяет осуществлять контролируемое термическое испарение широкого спектра материалов на образец. Продуманная конструкция не допускает загрязнения незадействованных сборок испаряемым материалом. Длина сборок регулируется в диапазоне от 5 до 10 см в зависимости от потребностей заказчика.

Держатель-манипулятор для мишеней

PLD-T оснащена держателем-манипулятором, включающим в себя три мишени диаметром 2 см. Мишени имеют стандартизированный размер. Все перемещения держателя-манипулятора моторизованы, включая вращение мишени.

Управление при помощи сенсорного экрана

PLD-T оснащена 7-дюймовым цветным сенсорным экраном; полностью автоматическое управление, контроль и настройка параметров процесса напыления при помощи удобного программного обеспечения. Информацию о уровне вакуума и этапа процесса напыления покрытия можно отслеживать в виде цифровых данных или графиков на сенсорном экране. Информация о последних 300 покрытиях сохраняется в истории выполненных операций и может быть передана на ПК через USB-порт.

Столики образцов

Установка может быть оснащена различными столиками для образцов в разнообразной конфигурации в зависимости от требований пользователя. Столики образцов имеют возможность вращения, регулировку по высоте и углу наклона; легко заменяются.

Дополнительная информация:

Турбомолекулярный насос с повышенный производительностью (опционально): Стандартная конфигурация: скорость откачки 90 л/с, предельное давление 7×10^-6 Торр; Конфигурация с повышенной производительностью: скорость откачки 350 л/с, предельное давление 7×10^-7 Торр
Двухступенчатый пластинчато-роторный форвакуумный насос (опционально – мембранный или спиральный насос)
Материал камеры напыления – нержавеющая сталь · Широкодиапазонный датчик вакуума
Источник питания высокой мощности на 2,5 кВт
Контроль подачи газа осуществляется с помощью двух прецизионных регуляторов массового расхода для точного контроля давления.
Графики параметров покрытия в режиме реального времени
Простая передача графиков данных о покрытии через USB-порт
Электропитание: 220 В, 50/60 Гц
Макс. потребляемая мощность: 3 кВт
Габариты установки: 500 мм x 600 мм x 470 мм (В × Ш × Г)
Вес в транспортировочной упаковке: 70 кг